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超凈高純試劑公司從事超凈高純試劑的研發、生產和銷售近 20 年,是國內目前主要的超凈高純試劑企業之一。公司的超凈高純試劑水平先進,多款產品達到 G4 等級,其中超凈高純雙氧水、超凈高純硫酸、超凈高純氨水三大類產品已實現整體技術突破,達到 G5 等級。

- 超凈高純試劑

半/導/體/制/程/用
超高純雙氧水超高純硫酸超高純氨水

符合:SEMI Grade5 標準

適用于:14納米以上集成電路加工工藝

SEMI Grade5 For 14nm and further technology node

產品信息詳情

PRODUCTION BASE
品名產品應用
雙氧水廣泛應用于半導體前道濕法清洗工藝,包括顆粒、金 屬雜質和有機物殘留的清洗
硫酸應用于半導體前道光刻膠剝離和有機物殘留的清洗
氨水應用于半導體前道particle及polymer的清洗
BOE應用于半導體前道氧化硅的濕法蝕刻工藝
硝酸應用于半導體前道硅蝕刻液及晶圓回收清洗
鹽酸應用于半導體前道金屬雜質的清洗去除
TMAH應用于半導體前道光刻膠顯影劑和硅減薄工藝

高純化學品目錄

HIGH PURITY ELECTRONIC CHEMICALS
品名純度級別UP-SSSUP-SSUP-SUPEL
過氧化氫
硫酸
氨水
異丙醇
四甲基氫氧化氨
鹽酸
硝酸
氟化銨
氫氟酸
BOE
N甲基吡咯烷酮
無水乙醇
冰醋酸
甲醇
乙酸丁酯
丙酮
草酸
氫氧化鈉
氫氧化鉀
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